[发明专利]用于分析显微镜的尺寸校准的系统和方法有效
| 申请号： | 201780068745.3 | 申请日： | 2017-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN109952526B | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | F·J·戴克;C·S·德雷珀;A·罗尼穆斯;W·R·基斐 | 申请（专利权）人： | 热电科学仪器有限公司 |
| 主分类号： | G02B21/36 | 分类号： | G02B21/36;G06T7/80;G02B21/34 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈洁;何焜 |
| 地址： | 美国威*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 描述了用于分析显微镜的校准元件的实施方案，所述校准元件包括当通过光束照射时表现出对比度的特征的大致上非周期性的图案。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 分析 显微镜 尺寸 校准 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于分析显微镜的校准元件，其包括当被光束照射时呈现对比度的特征的大致上非周期性的图案。
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