[发明专利]具有具备增强功能性的集成型计量工具的光刻系统在审
申请号: | 201780069251.7 | 申请日: | 2017-08-21 |
公开(公告)号: | CN109923480A | 公开(公告)日: | 2019-06-21 |
发明(设计)人: | E·阿米特;R·弗克维奇;L·叶鲁舍米 | 申请(专利权)人: | 科磊股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F7/00;H01L21/027 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 刘丽楠 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明提供具有增强性能的光刻系统及方法,其基于在打印工具中更广泛地利用集成型计量工具以依更复杂及经优化方式来处置所述系统中的计量测量。揭示额外操作通道,使得所述集成型计量工具能够关于所述打印工具的指定时间限制而监测及/或分配通过所述集成型计量工具并通过独立计量工具的计量测量;调整及优化计量测量配方;提供更佳过程控制以优化所述打印工具的过程参数;以及根据计量测量景观来对所述打印工具的过程参数进行分组。 | ||
搜索关键词: | 计量工具 计量测量 集成型 打印 光刻系统 过程参数 优化 额外操作 过程控制 时间限制 增强性能 配方 分组 监测 景观 分配 | ||
【主权项】:
1.一种光刻系统,其包括:打印工具,其具有集成型计量工具,及独立计量工具,其经连接到所述打印工具并且经配置以对由所述打印工具产生的晶片执行计量测量,其中所述光刻系统进一步包括将所述集成型计量工具与所述独立计量工具连接的监测通道,且所述集成型计量工具进一步经配置以在所述集成型计量工具与所述独立计量工具之间分配计量测量,并且关于所述打印工具的指定时间限制来监测所述分配及所述计量测量。
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