[发明专利]激光照射装置及薄膜晶体管的制造方法在审

专利信息
申请号: 201780069323.8 申请日: 2017-11-22
公开(公告)号: CN109952630A 公开(公告)日: 2019-06-28
发明(设计)人: 水村通伸;新井敏成;畑中诚;竹下琢郎 申请(专利权)人: V科技股份有限公司
主分类号: H01L21/20 分类号: H01L21/20;H01L21/336;H01L29/786
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华;洪秀川
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的一个实施方式的激光照射装置具备:光源,其产生激光;投影透镜,其向分别粘附于玻璃基板上的多个薄膜晶体管的非晶硅薄膜的规定区域照射该激光;及投影掩模图案,其设置在该投影透镜上,包含设定有该激光透过的比例即透射率的多个掩模,该投影透镜对于沿规定的方向移动的该玻璃基板上的该多个薄膜晶体管,分别经由该投影掩模图案所包含的该多个掩模来照射该激光,该投影掩模图案包含的该多个掩模分别设定多个该透射率中的任一个。
搜索关键词: 薄膜晶体管 投影透镜 投影掩模 掩模 激光照射装置 激光 玻璃基板 透射率 图案 非晶硅薄膜 方向移动 激光透过 区域照射 粘附 光源 照射 制造
【主权项】:
1.一种激光照射装置,其特征在于,具备:光源,其产生激光;投影透镜,其向分别粘附于玻璃基板上的多个薄膜晶体管的非晶硅薄膜的规定的区域照射所述激光;及投影掩模图案,其设置在所述投影透镜上,包含设定有所述激光透过的比例即透射率的多个掩模,所述投影透镜对于沿规定的方向移动的所述玻璃基板上的所述多个薄膜晶体管,分别经由所述投影掩模图案所包含的所述多个掩模来照射所述激光,所述投影掩模图案包含的所述多个掩模分别设定有多个所述透射率中的任一个。
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