[发明专利]基于光栅的相位对比成像在审
| 申请号： | 201780069836.9 | 申请日： | 2017-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN109964118A | 公开（公告）日： | 2019-07-02 |
| 发明（设计）人： | H·德尔;T·克勒 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/20 | 分类号： | G01N23/20;G01T1/20;A61B6/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 李光颖;王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 提供了一种用于相位对比成像系统(100)的X射线探测器(10)和具有这种探测器(10)的相位对比成像系统(100)。X射线探测器(10)包括闪烁设备(12)和光探测器(14)，所述光探测器具有光学耦合到所述闪烁设备(12)的多个光敏像素(15)，其中，所述X射线探测器(10)包括平行于所述闪烁设备(12)的表面法向向量的主轴(16)，并且其中，所述闪烁设备(12)包括具有多个凹槽(20)的晶片衬底(18)，所述多个凹槽彼此间隔开。凹槽(20)中的每个沿着从所述闪烁设备(12)的第一侧(13)到所述晶片衬底(18)中的第一方向(21)延伸一深度(22)，其中，凹槽(20)中的每个至少部分填充有闪烁材料。其中，所述多个凹槽(20)中的至少部分的第一方向(21)与所述主轴(16)不同，使得所述多个凹槽(20)中的至少部分相对于所述主轴(16)倾斜。布置在所述闪烁设备(12)的中心区域(24)中的凹槽(20)的第一方向(21)与所述主轴(16)之间的角度小于布置在所述闪烁设备(12)的外部区域(26)中的凹槽(20)的第一方向(21)与所述主轴(16)之间的角度。 | ||
| 搜索关键词： | 闪烁 相位对比 成像系统 光探测器 衬底 晶片 光栅 成像提供 光敏像素 光学耦合 闪烁材料 外部区域 中心区域 表面法 探测器 向量 填充 平行 延伸 | ||
【主权项】：
1.一种用于相位对比成像系统(100)的X射线探测器(10)，所述X射线探测器(10)包括：闪烁设备(12)；以及光探测器(14)，其具有光学地耦合到所述闪烁设备(12)的多个光敏像素(15)；其中，所述X射线探测器(10)包括平行于所述闪烁设备(12)的表面法向向量的主轴(16)；其中，所述闪烁设备(12)包括具有多个凹槽(20)的晶片衬底(18)，所述多个凹槽彼此间隔开；其中，所述凹槽(20)中的每个凹槽沿着从所述闪烁设备(12)的第一侧(13)到所述晶片衬底(18)中的第一方向(21)延伸到一深度(22)；其中，所述凹槽(20)中的每个凹槽至少部分地填充有闪烁材料；其中，所述多个凹槽(20)中的至少部分凹槽的所述第一方向(21)与所述主轴(16)不同，使得所述多个凹槽(20)中的至少部分凹槽相对于所述主轴(16)被倾斜；并且其中，被布置在所述闪烁设备(12)的中心区域(24)中的凹槽(20)的所述第一方向(21)与所述主轴(16)之间的角度小于被布置在所述闪烁设备(12)的外部区域(26)中的凹槽(20)的所述第一方向(21)与所述主轴(16)之间的角度。
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