[发明专利]用于检测材料的X射线荧光系统和方法以及控制系统有效

专利信息
申请号: 201780070097.5 申请日: 2017-09-17
公开(公告)号: CN109997031B 公开(公告)日: 2022-05-10
发明(设计)人: Y·格罗夫;T·吉斯列夫;N·佑兰;H·阿龙;M·卡普林斯基 申请(专利权)人: 索雷克核研究中心;安全事业有限公司
主分类号: G01N23/223 分类号: G01N23/223;H01J35/02
代理公司: 北京市中伦律师事务所 11410 代理人: 杨黎峰;钟锦舜
地址: 以色列*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提出了用于检测材料的X射线荧光系统和方法以及控制系统。所述控制系统用于控制X射线荧光(XRF)系统检测由样品携带的至少一种材料,其包括:数据输入实用工具,用于接收包括关于所述至少一种材料/标记物的材料/标记物相关数据;以及数据处理器和分析仪实用工具。数据处理器和分析仪实用工具配置为和可操作为:用于分析输入数据并确定XRF系统的最佳几何特征,以优化所述XRF系统的操作条件,从而使到达样品的预定区域并被所述区域的体积吸收的主X射线辐射的量最大化并且使从所述区域发射的二次辐射到达XRF系统的检测器的部分最大化:并且用于生成XRF系统的实现XRF系统的几何特征的调整的操作数据。
搜索关键词: 用于 检测 材料 射线 荧光 系统 方法 以及 控制系统
【主权项】:
1.一种控制系统,用于控制X射线荧光(XRF)系统检测由样品携带的至少一种材料的操作,所述控制系统包括:数据输入实用工具,其用于接收包括关于由所述样品携带的所述至少一种材料的材料相关数据的输入数据;数据处理器和分析仪实用工具,其配置为和可操作为:用于分析所述输入数据并确定所述XRF系统的最佳几何特征,以优化所述XRF系统的操作条件,从而使到达所述样品的预定区域并被所述区域的体积吸收的主X射线辐射的量最大化并且使从所述区域发射的二次辐射的到达所述XRF系统的检测器的部分最大化;以及用于生成所述XRF系统的实现所述XRF系统的几何特征的调整的操作数据。
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