[发明专利]用于照射定义表面的装置有效

专利信息
申请号: 201780073873.7 申请日: 2017-11-29
公开(公告)号: CN110036313B 公开(公告)日: 2021-12-03
发明(设计)人: U.施特雷佩尔 申请(专利权)人: 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司
主分类号: G02B3/08 分类号: G02B3/08;F21V5/04;H01L33/58;G02B19/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张涛;申屠伟进
地址: 德国雷*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种使用发射辐射的光电子组件(1)和菲涅耳光学系统(2)照射限定表面(3)的装置,其中菲涅耳光学系统具有带环形脊部(15、17、18、19)和环形凹部(16、20、21、22)的菲涅耳结构(8),脊部和凹部围绕菲涅耳结构的光学中心轴(10),脊部的至少第一部分(81、82、83、84)在相对于中轴的限定角度范围(71、72、73、74)中具有与脊部在第二角度范围(71、72、73、74)中的第二部分(81、82、83、84)不同的形状。
搜索关键词: 用于 照射 定义 表面 装置
【主权项】:
1.一种用于照射预定表面区域(3)的装置,所述装置具有发射辐射的光电子组件(1)和菲涅耳光学器件(2),其中,所述菲涅耳光学器件(2)包括具有环形脊部(15、17、18、19)和环形凹部(16、20、21、22)的菲涅耳结构(8),其中所述脊部(15、17、18、19)被配置成闭合环,其中所述脊部(15、17、18、19)和所述凹部(16、20、21、22)包围所述菲涅耳结构(8)的光学中轴(10),其中脊部(15、17、18、19)的至少一个第一分段(81、82、83、84)在相对于所述中轴(10)的预定角度范围(71、72、73、74)中具有与所述脊部(15、17、18、19)在第二角度范围(71、72、73、74)中的第二分段(81、82、83、84)不同的形状。
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