[发明专利]用于处理基板的处理配件和方法有效
| 申请号： | 201780075210.9 | 申请日： | 2017-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN110036137B | 公开（公告）日： | 2021-08-17 |
| 发明（设计）人： | 清·X·源;郑伟民;曹勇 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/34;C23C14/50;H01J37/34 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 此处提供用于处理腔室的处理配件和用于处理基板的方法的实施方式。在一些实施方式中，一种处理配件，包括：非导电上部屏蔽件，具有配置成环绕溅射靶材的上部分和从上部分向下延伸的下部分；和导电下部屏蔽件，由非导电上部屏蔽件径向向外设置，且具有圆柱形主体、下壁和唇部，圆柱形主体具有上部分和下部分，下壁从下部分径向向内突出，且唇部从下壁向上突起。圆柱形主体由第一间隙与非导电上部屏蔽件隔开。下壁由第二间隙与非导电上部屏蔽件的下部分隔开，第二间隙配置成限制介于非导电上部屏蔽件之中的空间与导电下部屏蔽件的圆柱形主体之间的直接视线。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 处理 配件 方法 | ||
【主权项】：
1.一种处理配件，包含：非导电上部屏蔽件，具有配置成环绕溅射靶材的上部分和从所述上部分向下延伸的下部分；和导电下部屏蔽件，由所述非导电上部屏蔽件径向向外设置，且具有圆柱形主体、下壁和唇部，所述圆柱形主体具有上部分和下部分，所述下壁从所述下部分径向向内突出，且所述唇部从所述下壁向上突起，其中所述圆柱形主体由第一间隙与所述非导电上部屏蔽件径向隔开，且其中所述下壁由第二间隙与所述非导电上部屏蔽件的所述下部分垂直隔开，所述第二间隙配置成限制介于所述非导电上部屏蔽件之中的空间与所述导电下部屏蔽件的所述圆柱形主体之间的直接视线。
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