[发明专利]聚合物、正型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法有效
| 申请号： | 201780075900.4 | 申请日： | 2017-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN110050005B | 公开（公告）日： | 2021-05-14 |
| 发明（设计）人： | 星野学 | 申请（专利权）人： | 日本瑞翁株式会社 |
| 主分类号： | C08F220/22 | 分类号： | C08F220/22;C08F212/06;G03F7/039;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 赵曦;刘继富 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明目的在于提供一种聚合物，其在作为主链切断型的正型抗蚀剂使用时，能够充分地抑制抗蚀剂图案的塌陷的发生、良好地形成清晰的抗蚀剂图案、进而提高敏感度。本发明的聚合物具有由下述通式(I)表示的单体单元(A)和由下述通式(II)表示的单体单元(B)。[式(I)中，R |
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| 搜索关键词： | 聚合物 正型抗蚀剂 组合 抗蚀剂 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种聚合物，具有由下述通式(I)表示的单体单元A，以及由下述通式(II)表示的单体单元B，![]()
式(I)中，R1为氟原子数为5以上且7以下的有机基团，![]()
式(II)中，R2为氢原子、氟原子、非取代的烷基或氟原子取代的烷基，R3为氢原子、非取代的烷基或氟原子取代的烷基，p和q为0以上且5以下的整数，p+q＝5。
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