[发明专利]量测目标的方法、量测设备、偏振器组件有效
| 申请号： | 201780076029.X | 申请日： | 2017-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN110062912B | 公开（公告）日： | 2021-07-20 |
| 发明（设计）人： | N·潘迪;周子理 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了测量通过光刻过程形成的目标的方法、一种量测设备及一种偏振器组件。所述目标包括在第一层中具有第一周期性结构且在第二层中具有第二周期性结构的分层结构。用偏振测量辐射照射所述目标。检测来自所述目标的第零阶散射辐射。使用来自所述目标的检测的第零阶散射辐射来导出所述第一周期性结构中的不对称性。所述第一层与所述第二层之间的间隔使得所述检测的第零阶散射辐射与所述第一周期性结构与所述第二周期性结构之间的重叠误差无关。所述第一周期性结构中的导出的不对称性用以导出第一周期性结构与第二周期性结构之间的正确的重叠值。 | ||
| 搜索关键词： | 目标 方法 设备 偏振 组件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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