[发明专利]用于预测测量方法的性能的方法和设备、测量方法和设备有效
| 申请号： | 201780076030.2 | 申请日： | 2017-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN110050233B | 公开（公告）日： | 2021-08-10 |
| 发明（设计）人： | M·J·J·杰克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01N21/47;G03F1/44;G01N21/95;G01N21/956;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 重叠测量(OV)基于由光刻过程而形成的目标结构的衍射光谱中的不对称性。目标结构之间的叠层差异可被认为是光栅不平衡性(GI)，且所述重叠测量的准确度可被降级。一种预测GI灵敏度的方法是利用相对衍射阶使用目标结构的第一图像和第二图像(45+、45‑)来执行的。使用相同图像的区(ROI)来测量重叠。进行对所述相对衍射阶之间的强度的对称性(S)和不对称性(A)的多个局部测量，对称性和不对称性的每个局部测量对应于目标结构上的具体部位。基于对称性值和不对称性值的局部测量的统计分析，获得对光栅不平衡性的灵敏度的预测。这能够用以选择较佳测量配置方案和/或用以校正由光栅不平衡性造成的误差。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 预测 测量方法 性能 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种预测测量方法的性能的方法，所述测量方法基于由光刻过程形成的一个或更多个目标结构内的周期性特征的衍射光谱中的不对称性，所述预测性能的方法包括以下步骤：(a)使用由所述目标结构衍射的辐射的所述衍射光谱的对称地相对的部分来形成所述目标结构的第一图像和第二图像；(b)从所述第一图像和所述第二图像，导出在所述衍射光谱的相对的部分之间的强度的对称性和不对称性的多个局部测量，对称性和不对称性的每个局部测量对应于所述目标结构上的具体部位；和(c)基于对称性值和不对称性值的所述局部测量的统计分析，确定对所述测量方法的性能的预测。
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