[发明专利]电容矩阵布置及其激励方法

摘要

本发明涉及一种电容矩阵布置，其包括有源介质，其布置在字线和位线之间的层中，其交叉点具有可通过字线和位线的激励选择的具有介入有源介质的电容单元，还涉及一种激励方法，其中本发明基于将矩阵中的电容元件的有源激励与无源激励的优点结合的目标。这是通过字线具有可变的德拜长度来实现的，即它们由具有可变移动电荷载流子浓度的材料组成，并且布置在有源介质和非有源电介质之间。通过控制电场的作用来进行激励。

主权项

1.一种电容矩阵布置，包括有源介质(1)，其嵌入在第一组和第二组相应的并行寻址电极之间的层中，其中第一组的寻址电极形成字线(2)，第二组寻址电极形成矩阵布置的位线(3)，其中字线(2)和位线(3)在交叉点相交，具有介入有源介质(1)的电容单元(4)布置在交叉点处，可通过字线(2)和位线(3)的激励来选择，其特征在于，至少在交叉点区域中的字线(2)由具有可变德拜长度的材料组成，即，具有可变移动电荷载流子浓度的材料，并且布置在有源介质(1)和非有源电介质(7)之间，与它们形成分层布置，并且分层布置位于参比电极(5，6)和位线(3)之间，其中‑选择分层布置的第一层，使得从字线看到的有源介质位于具有参比电极的一侧并且‑或者，选择分层布置的第二层，使得从字线看到的有源介质位于具有位线的一侧。