[发明专利]用于半导体处理的晶片定位基座

摘要

一种组件在用于在晶片上沉积膜的处理室中使用并且包括从中心轴延伸的基座。致动器配置用于控制基座的运动。中心轴在致动器和基座之间延伸，中心轴配置成沿着中心轴线移动基座。升降垫被配置为搁置在基座上并且具有垫顶表面，该垫顶表面被配置为支撑放置在其上的晶片。垫轴在致动器和升降垫之间延伸并控制升降垫的运动。垫轴定位在中心轴内，并且被配置成当基座处于向上位置时将升降垫与基座顶表面分离处理旋转位移。垫轴配置成在第一和第二角度方位之间相对于基座顶表面旋转。

主权项

1.一种在用于在晶片上沉积膜的处理室中使用的组件，其包括：基座，其具有从中心轴线延伸的基座顶表面；致动器，其被配置用于控制所述基座的运动；中心轴，其在所述致动器和所述基座之间延伸，所述中心轴被配置成沿所述中心轴线移动所述基座；升降垫，其具有从所述中心轴线延伸到垫直径的垫顶表面和被配置成搁置在所述基座顶表面上的垫底表面，所述垫顶表面被配置成当晶片放置在其上时支撑该晶片；以及在所述致动器和所述升降垫之间延伸的垫轴，所述致动器被配置成用于控制所述升降垫的运动，所述垫轴被配置成将所述升降垫与所述基座分离，所述垫轴定位在所述中心轴内；其中，所述升降垫被配置成当所述基座处于向上位置时，沿着所述中心轴线相对于所述基座顶表面向上移动，使得所述升降垫与所述基座顶表面分离处理旋转位移；其中，所述升降垫被配置成当其在至少第一角度方位和第二角度方位之间与所述基座分离时相对于所述基座顶表面旋转。