[发明专利]Al2O3溅射靶及其制造方法在审
| 申请号： | 201780077077.0 | 申请日： | 2017-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN110073029A | 公开（公告）日： | 2019-07-30 |
| 发明（设计）人： | 小井土由将 | 申请（专利权）人： | 捷客斯金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C04B35/111 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 胡嵩麟;王海川 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种Al2O3溅射靶，其特征在于，所述Al2O3溅射靶的纯度为99.99重量％以上、相对密度为85％以上且95％以下、体积电阻率为10×1014Ω·cm以下、介质损耗角正切为15×10‑4以上。本发明的课题在于，提供一种具有良好的溅射特性的Al2O3溅射靶、特别是即使不提高溅射功率也能够提高成膜速率的Al2O3溅射靶及其制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射靶 介质损耗角正切 体积电阻率 溅射功率 成膜 溅射 制造 | ||
【主权项】：
1.一种Al2O3溅射靶，其中，所述Al2O3溅射靶的纯度为99.99重量％以上、相对密度为85％以上且95％以下、体积电阻率为10×1014Ω·cm以下、介质损耗角正切为15×10‑4以上。
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