[发明专利]厌氧性细菌等细菌与上皮细胞的共培养装置及共培养方法在审
| 申请号： | 201780077207.0 | 申请日： | 2017-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN110072988A | 公开（公告）日： | 2019-07-30 |
| 发明（设计）人： | 片山高岭;神户大朋 | 申请（专利权）人： | 国立大学法人京都大学 |
| 主分类号： | C12M1/00 | 分类号： | C12M1/00;C12M3/00;C12M3/04;C12N1/20;C12N5/071 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 沈雪 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 为了提供进行厌氧性细菌等细菌与上皮细胞的共培养的方式，本发明提供一种培养系统，其用于将第1细胞组和由第2细胞组形成的细胞层或组织进行共培养，所述第1细胞组由1种或多种细胞构成，所述第2细胞组由与第1细胞组不同的1种或多种细胞构成，所述培养系统的特征在于具有：将由厌氧性细菌等1种或多种细胞构成的第1细胞组与由第2细胞组形成的细胞层或组织在厌氧条件下进行共培养的第1培养槽，所述第2细胞组由上皮细胞等1种或多种细胞构成；储存需氧状态的培养液的第2培养槽；以连接所述第1培养槽和所述第2培养槽的方式配置的1个或多个物质交换结构；以及，以覆盖所述物质交换结构的第1培养槽侧的表面的方式设置的所述细胞层或组织。 | ||
| 搜索关键词： | 细胞组 培养槽 厌氧性细菌 上皮细胞 细胞层 细胞 培养系统 物质交换 培养液 细菌 共培养装置 方式配置 方式设置 厌氧条件 需氧 储存 覆盖 | ||
【主权项】：
1.一种培养系统，其用于将第1细胞组和由第2细胞组形成的细胞层或组织进行共培养，所述第1细胞组由1种或多种细胞构成，所述第2细胞组由与第1细胞组不同的1种或多种细胞构成，所述培养系统具有：将所述第1细胞组与由所述第2细胞组形成的细胞层或组织在厌氧条件下进行共培养的第1培养槽；在需氧条件下储存培养液的第2培养槽；以及以覆盖该第1培养槽侧的表面的方式保持所述细胞层或组织、且以连接所述第1培养槽和所述第2培养槽的方式设置的1个或多个物质交换结构体。
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