[发明专利]辐射源设备和方法、光刻设备和检查设备有效
| 申请号： | 201780077241.8 | 申请日： | 2017-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN110088682B | 公开（公告）日： | 2022-06-10 |
| 发明（设计）人： | N·斯伯克;P·C·M·普兰肯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H05G2/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | EUV辐射源(42，300)被用于例如光刻设备或检查设备中。为了产生EUV辐射(302)，将位于第二波段的激光辐射(304)引导到液体锡燃料(69)的靶上，以使得产生等离子体。在传递所述激光辐射(304)之前或期间将光栅辐射(328)引导到所述靶上，以产生具有空间分布的电磁场，所述空间分布包括跨过靶(406)的多个峰和谷。这使得所述靶的性质，诸如折射率，产生对应的空间变化。如果能量足够高，则它可以使得光栅图案中发生烧蚀或形成等离子体。通过一个或更多个机制，诸如表面等离子体激元，靶的光学性质的这种周期性变化提高了激光能量的吸收，从而提高了辐射源设备的转换效率。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射源 设备 方法 光刻 检查 | ||
【主权项】：
1.一种用于提供位于第一波段的第一辐射的设备，所述设备包括：‑系统，配置成将位于第二波段的第二辐射引导到靶上，以引起生成所述第一辐射；并配置成在传递所述第二辐射之前和/或期间将第三辐射引导到所述靶上，所述第三辐射被传递以使得产生具有能量的空间分布的电磁场，所述能量的空间分布包括跨过所述靶的多个峰和谷，以便引起所述靶的性质产生对应的空间变化。
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