[发明专利]用于监测来自量测装置的照射的特性的方法有效
| 申请号： | 201780077259.8 | 申请日： | 2017-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN110088683B | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | J·T·J·施梅茨-沙根;H·A·J·克拉默;A·E·A·库伦;B·O·法格金杰·奥尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;G01N21/956 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;吕世磊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于监测来自量测装置的照射的特性的方法，该方法包括：使用量测装置在量测装置的不同焦点设置下获取光瞳图像；以及计算所获取的每个光瞳图像的不对称性值；其中每个光瞳图像是在衬底的目标的至少一个边缘上获取的。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 监测 自量 装置 照射 特性 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于监测来自量测装置的照射的特性的方法，所述方法包括：使用所述量测装置在所述量测装置的不同焦点设置下获取光瞳图像；以及计算所获取的每个光瞳图像的不对称性值；其中每个光瞳图像是在衬底的目标的至少一个边缘上获取的。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780077259.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：辐射源设备和方法、光刻设备和检查设备
- 下一篇：光学装置和相关方法
