[发明专利]用于离子束装置的气体注入系统及制造其的萃取板的方法有效
| 申请号： | 201780078300.3 | 申请日： | 2017-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN110088873B | 公开（公告）日： | 2021-02-19 |
| 发明（设计）人： | 杰伊·R·沃利斯;厄尼斯特·E·艾伦;理查德·J·赫尔特;艾立克斯恩德·C·刚特司;梁树荣;杰佛瑞·E·卡兰波特;泰勒·洛克威尔 | 申请（专利权）人： | 瓦里安半导体设备公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/02;H01J37/305 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 罗英;臧建明 |
| 地址： | 美国麻萨诸塞州格洛斯特郡*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开一种用于离子束装置的气体注入系统及制造其的萃取板的方法。所述气体注入系统包括萃取板，所述萃取板具有萃取开孔以允许离子束通过所述萃取板，所述萃取板还具有气体狭槽以从所述萃取板逐出残余物移除气体。气体注入系统可包括气体导管及气体源，所述气体导管在气体狭槽与气体歧管之间延伸穿过萃取板，气体源与气体歧管流体连通地连接，所述气体源容纳残余物移除气体。气体歧管可包括能够在第一位置与第二位置之间调节的阀门，在所述第一位置中允许残余物移除气体流动到萃取板中，在所述第二位置中所述残余物移除气体可从所述萃取板排出。气体注入系统还可包括耦合到气体歧管的歧管罩。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 离子束 装置 气体 注入 系统 制造 萃取 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于离子束装置的气体注入系统，其特征在于，所述气体注入系统包括萃取板，所述萃取板具有萃取开孔以允许离子束通过所述萃取板，所述萃取板还具有形成在所述萃取板中的气体狭槽以利于从所述萃取板逐出气体。
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