[发明专利]具有经调节的调节装置的掩膜保持件有效
| 申请号： | 201780081764.X | 申请日： | 2017-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN110139943B | 公开（公告）日： | 2021-12-21 |
| 发明（设计）人： | M.格斯多夫;M.雅各布 | 申请（专利权）人： | 艾克斯特朗欧洲公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/54;C23C14/56;C23C16/04;C23C16/52;C23C16/54;H01L51/00;B05C21/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 彭程 |
| 地址： | 德国黑*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于掩膜(1)的保持件，掩膜在涂层方法中平放在基底(2)的待涂层的表面上，以便将层的沉积局限于所述表面的通过掩膜(1)的形状和位置预先确定的面区段，其中，保持件的框架(3)的区段(4、4’、4”、4”’、16)利用使掩膜(1)变形的可变的拉力作用在掩膜(1)的边缘(1’)上。规定下列创新：用于确定掩膜(1)相对于基底(2)的实际位置的传感器(5)、用于改变框架(3)的至少一个第一区段(4)相对于框架(3)的至少一个第二区段(4’)的位置的调节元件(6、7、8)和带有控制装置(9)的调节电路，以便通过改变拉力(Z、Z’、Z”、Z”’)使掩膜(1)的实际位置朝掩膜(1)的额定位置的方向改变。本发明此外还涉及一种用于调节掩膜的位置的方法，在该方法中使用调节电路。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 调节 装置 保持 | ||
【主权项】：
1.一种用于掩膜(1)的保持件，所述掩膜在涂层方法中平放在基底(2)的待涂层的表面上，以便将层的沉积局限于所述表面的通过掩膜(1)的形状和位置预先确定的面区段，其中，保持件的对置的区段利用使掩膜(1)变形的可变的拉力作用在掩膜(1)的边缘(1’)上，所述保持件具有用于确定掩膜(1)相对于基底(2)的实际位置的传感器(5)、用于改变框架(3)的至少一个第一区段(4)相对于框架(3)的至少一个第二区段(4’)的位置的调节元件(6、7、8)和带有控制装置(9)的调节电路，以便通过改变拉力(Z、Z’、Z”、Z”’)使掩膜(1)的实际位置朝掩膜(1)的额定位置的方向改变，其特征在于，构造有保持件的矩形框架(3)的框架侧边(4、4’、4”、4”’)的区段，并且调节元件(6、7)通过温度改变来改变矩形框架(3)的两个对置的框架侧边(4、4’、4”、4”’)的间距。
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