[发明专利]水质调整水制造装置在审
| 申请号： | 201780082241.7 | 申请日： | 2017-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN110167888A | 公开（公告）日： | 2019-08-23 |
| 发明（设计）人： | 正冈融 | 申请（专利权）人： | 栗田工业株式会社 |
| 主分类号： | C02F1/68 | 分类号： | C02F1/68;B01D19/00;C02F1/20;H01L21/304 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 陈曦;向勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种在超纯水中添加pH调整剂和/或氧化还原电位调整剂来制造水质调整水的装置，具备：贮存包含pH调整剂和/或氧化还原电位调整剂的药液的药液槽(1)、将该药液槽(1)内的药液注药至超纯水的注药配管(3)、以及对注药至该超纯水的药液进行脱气处理的脱气机构(6)。在将pH调整剂和/或氧化还原电位调整剂添加至超纯水中，制造作为半导体晶片的洗涤水等有用的水质调整水时，能够解决来自药液的DO的混入、因药液的发泡所致的注药不良、流量计的测定不良的问题，能够稳定地制造DO浓度低的高水质的水质调整水。 | ||
| 搜索关键词： | 水质调整 注药 氧化还原电位 调整剂 超纯水 药液槽 水中 流量计 制造 半导体晶片 脱气处理 脱气机构 制造装置 高水质 洗涤水 发泡 混入 配管 贮存 | ||
【主权项】：
1.一种水质调整水制造装置，其是在超纯水中添加pH调整剂和/或氧化还原电位调整剂来制造水质调整水的装置，所述水质调整水制造装置的特征在于，具备：贮存包含pH调整剂和/或氧化还原电位调整剂的药液的药液槽、将该药液槽内的药液注药至超纯水的注药配管、以及对注药至该超纯水的药液进行脱气处理的脱气机构。
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