[发明专利]减少反射光束的光学功率在审
申请号: | 201780082714.3 | 申请日: | 2017-12-04 |
公开(公告)号: | CN110178073A | 公开(公告)日: | 2019-08-27 |
发明(设计)人: | P·M·康克林;C·A·史汀生 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G02B27/42 | 分类号: | G02B27/42;G02B27/09;H01S3/00;H01S3/10;H05G2/00 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 用于极紫外(EUV)光源的系统包括:光生成系统,该光生成系统被配置为将一个或多个光束发射到光束路径上;一个或多个光学放大器,该一个或多个放大器中的每一个包括光束路径上的增益介质,每个增益介质被配置为放大一个或多个光束以产生一个或多个放大光束;以及一个或多个衍射光学元件,该衍射光学元件处于光学路径上,其中,一个或多个衍射光学元件中的每一个具有多个焦距,并且衍射光学元件中的每个焦距与特定偏振状态相关联。 | ||
搜索关键词: | 衍射光学元件 光束路径 增益介质 焦距 放大 放大器 光学放大器 反射光束 光束发射 光学功率 光学路径 偏振状态 光源 配置 关联 | ||
【主权项】:
1.一种用于极紫外(EUV)光源的系统,所述系统包括:光生成系统,被配置为将一个或多个光束发射到光束路径上;一个或多个光学放大器,所述一个或多个放大器中的每个放大器包括在所述光束路径上的增益介质,每个增益介质被配置为放大所述一个或多个光束以产生一个或多个放大光束;以及一个或多个衍射光学元件,所述衍射光学元件处于所述光学路径上,其中所述一个或多个衍射光学元件中的每个衍射光学元件具有多个焦距,并且所述衍射光学元件的每个焦距与特定偏振状态相关联。
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