[发明专利]氨水溶液的制造装置及氨水溶液的制造方法在审
申请号: | 201780084672.7 | 申请日: | 2017-03-09 |
公开(公告)号: | CN110225891A | 公开(公告)日: | 2019-09-10 |
发明(设计)人: | 小川祐一 | 申请(专利权)人: | 栗田工业株式会社 |
主分类号: | C02F1/68 | 分类号: | C02F1/68;B08B3/08;C02F1/42 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 李慧慧;向勇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的氨水溶液制造装置,通过从氨供给装置向从超纯水制造装置供给的超纯水中供给氨并使氨溶解来制造稀氨水溶液,并将该稀氨水溶液供给至使用点。在此,超纯水制造装置具有供给电阻值为18MΩcm以上、金属离子浓度为1ng/L以下、尤其是0.1ng/L以下的超纯水W的能力。然后,从氨供给装置向超纯水W中添加氨来制造稀氨水。该氨水溶液制造装置,适合于制造氨(铵离子)浓度为100mg/L以下、尤其是50mg/L以下的稀氨水。这种氨水溶液制造装置,能够以稳定的浓度制造氨水溶液,对浓度的改变的追随性优异。 | ||
搜索关键词: | 氨水溶液 制造装置 制造 超纯水制造装置 稀氨水溶液 供给装置 超纯水 稀氨水 金属离子 氨溶解 使用点 追随性 铵离子 电阻 水中 | ||
【主权项】:
1.一种氨水溶液制造装置,其制造从氨供给装置向原料水中添加氨并使氨溶解而成的氨水溶液,并将该氨水溶液供给至使用点,其中,所述氨水溶液制造装置使用金属离子浓度为1ng/L以下的超纯水作为所述原料水。
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