[发明专利]增强功能性髓鞘产生的方法和组合物在审
申请号: | 201780085403.2 | 申请日: | 2017-12-06 |
公开(公告)号: | CN110249051A | 公开(公告)日: | 2019-09-17 |
发明(设计)人: | P.特萨;M.埃利特 | 申请(专利权)人: | 凯斯西储大学 |
主分类号: | C12N15/10 | 分类号: | C12N15/10;C07K14/47;C12N15/63;C12N15/864 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邹宗亮;曹立莉 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 提供了一种生成增强功能性髓鞘产生的细胞的方法,所述方法包括对细胞进行以下基因修饰:(i)修饰内源性PLP1基因以降低其抑制髓鞘产生的能力;(ii)修饰内源性PLP1基因调控元件以降低其促进PLP1表达的能力;(iii)修饰内源性PLP1基因调控元件以提高其抑制PLP1表达的能力;或者(iv)修饰内源性PLP1基因产物或促进PLP1表达的PLP1调控元件的基因产物以降低PLP1表达水平,其中所述细胞产生功能性髓鞘。 | ||
搜索关键词: | 内源性 髓鞘 修饰 基因调控元件 基因产物 细胞 表达水平 调控元件 基因修饰 细胞产生 基因 | ||
【主权项】:
1.一种生成增强功能性髓鞘产生的细胞的方法,所述方法包括对细胞进行以下基因修饰:(i)修饰内源性PLP1基因以降低其抑制髓鞘产生的能力;(ii)修饰内源性PLP1基因调控元件以降低其促进PLP1表达的能力;(iii)修饰内源性PLP1基因调控元件以提高其抑制PLP1表达的能力,和/或(iv)修饰内源性PLP1基因产物或促进PLP1表达的PLP1调控元件的基因产物以降低PLP1表达水平,其中所述细胞产生功能性髓鞘,或者是产生或分化为产生功能性髓鞘的细胞的祖细胞。
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