[发明专利]增强功能性髓鞘产生的方法和组合物在审

专利信息
申请号: 201780085403.2 申请日: 2017-12-06
公开(公告)号: CN110249051A 公开(公告)日: 2019-09-17
发明(设计)人: P.特萨;M.埃利特 申请(专利权)人: 凯斯西储大学
主分类号: C12N15/10 分类号: C12N15/10;C07K14/47;C12N15/63;C12N15/864
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邹宗亮;曹立莉
地址: 美国俄*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 提供了一种生成增强功能性髓鞘产生的细胞的方法,所述方法包括对细胞进行以下基因修饰:(i)修饰内源性PLP1基因以降低其抑制髓鞘产生的能力;(ii)修饰内源性PLP1基因调控元件以降低其促进PLP1表达的能力;(iii)修饰内源性PLP1基因调控元件以提高其抑制PLP1表达的能力;或者(iv)修饰内源性PLP1基因产物或促进PLP1表达的PLP1调控元件的基因产物以降低PLP1表达水平,其中所述细胞产生功能性髓鞘。
搜索关键词: 内源性 髓鞘 修饰 基因调控元件 基因产物 细胞 表达水平 调控元件 基因修饰 细胞产生 基因
【主权项】:
1.一种生成增强功能性髓鞘产生的细胞的方法,所述方法包括对细胞进行以下基因修饰:(i)修饰内源性PLP1基因以降低其抑制髓鞘产生的能力;(ii)修饰内源性PLP1基因调控元件以降低其促进PLP1表达的能力;(iii)修饰内源性PLP1基因调控元件以提高其抑制PLP1表达的能力,和/或(iv)修饰内源性PLP1基因产物或促进PLP1表达的PLP1调控元件的基因产物以降低PLP1表达水平,其中所述细胞产生功能性髓鞘,或者是产生或分化为产生功能性髓鞘的细胞的祖细胞。
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