[发明专利]光学系统在审
| 申请号： | 201780085572.6 | 申请日： | 2017-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN110402374A | 公开（公告）日： | 2019-11-01 |
| 发明（设计）人： | R·史丹利;A·夏比拉;L·A·邓巴尔;P·帕德 | 申请（专利权）人： | 瑞士CSEM电子显微技术研发中心 |
| 主分类号： | G01J3/26 | 分类号： | G01J3/26;G01J3/28 |
| 代理公司： | 青岛联智专利商标事务所有限公司 37101 | 代理人： | 迟姗;刘丹丹 |
| 地址： | 瑞士纳*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光学系统，包括至少一个物镜、光学滤波器、和成像透镜或包括多个孔径元件的第一孔径阵列。所述至少一个物镜、光学滤波器、和成像透镜或第一孔径阵列沿光轴布置，以在成像透镜上或在第一孔径阵列上形成光学滤波器的至少一个投影。所述光学系统还包括滤波器选择装置，用于选择要提供给成像透镜或第一孔径阵列的滤波的电磁辐射。 | ||
| 搜索关键词： | 成像透镜 孔径阵列 光学滤波器 光学系统 物镜 滤波器选择装置 电磁辐射 孔径元件 光轴 滤波 投影 | ||
【主权项】：
1.一种光学系统，包括：‑至少一个物镜(2)；‑光学滤波器(F)；以及‑成像透镜(4b)，或包括多个孔径元件的第一孔径阵列(4)；其中，所述至少一个物镜(2)、所述光学滤波器(F)和所述成像透镜(4b)或所述第一孔径阵列(4)沿光轴(8)布置，以在所述成像透镜(4b)上或在所述第一孔径阵列(4)上形成所述光学滤波器(F)的至少一个投影，并且其中，所述光学系统还包括滤波器选择装置(FSM)，用于选择将提供给所述成像透镜(4b)或所述第一孔径阵列(4)的已被滤波的电磁辐射。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞士CSEM电子显微技术研发中心，未经瑞士CSEM电子显微技术研发中心许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780085572.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：电磁波检测器、电磁波检测器阵列以及电磁波检测方法
- 下一篇：转矩传感器
