[发明专利]具有滤波器和透镜阵列的成像传感器在审
| 申请号： | 201780085663.X | 申请日： | 2017-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN110268239A | 公开（公告）日： | 2019-09-20 |
| 发明（设计）人： | S·C·扬多 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | G01J3/12 | 分类号： | G01J3/12;G01J3/28;G01J3/36;G01J5/20;G01J3/02;H01L27/146;A61B5/08;G01N21/3504 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 刘兆君 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种红外成像设备，包括滤波器阵列(110)，所述滤波器阵列包括：(i)多个间隔开的滤波器元件(116)；(ii)反射涂层(114)，其中，所述反射涂层在所述多个间隔开的滤波器元件中的每个之间被设置在所述滤波器阵列上；以及(iii)多个透镜(112)，其中，所述多个透镜中的每个与所述多个间隔开的滤波器元件中相应的一个对准，并且被配置为将电磁辐射聚焦成射束；以及成像传感器阵列(120)，其与所述滤波器阵列隔开第一距离并且包括多个像素元件(122)，其中，所述多个像素元件中的每个与来自所述多个间隔开的滤波器元件中相应的一个的聚焦射束对准。 | ||
| 搜索关键词： | 滤波器元件 滤波器阵列 透镜 反射涂层 像素元件 射束 对准 聚焦 成像传感器阵列 滤波器 红外成像设备 成像传感器 电磁辐射 透镜阵列 隔开 配置 | ||
【主权项】：
1.一种红外成像设备，包括：滤波器阵列(110)，其包括：(i)多个间隔开的滤波器元件(116)；(ii)反射涂层(114)，其中，所述反射涂层在所述多个间隔开的滤波器元件中的每个之间被设置在所述滤波器阵列上；以及(iii)多个透镜(112)，其中，所述多个透镜中的每个与所述多个间隔开的滤波器元件中相应的一个对准并且被配置为将电磁辐射聚焦成射束；以及成像传感器阵列(120)，其与所述滤波器阵列隔开第一距离并且包括多个像素元件(122)，其中，所述多个像素元件中的每个与来自所述多个间隔开的滤波器元件中相应的一个的聚焦射束对准。
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