[发明专利]具有改进的光学组的立体光刻机

摘要

一种用于制造三维物体(O)的立体光刻机(1)，其包括：用于流体物质(R)的容器(2)；预定辐射(RL，RL1，RL2)的源(3，31，32)；光学组(4)，其被配置成将辐射(RL，RL1，RL2)朝向该流体物质(R)的参考表面(SR)引导；以及控制逻辑单元(5)，其被配置成控制该光学组(4)和/或该辐射源(3，31，32)以使该参考表面(SR)的至少一部分曝光于辐射(RL，RL1，RL2)。立体光刻机提供光学组(4)，其包括第一子光学组(41)和第二子光学组(42)，该第一子光学组(41)被配置成曝光于辐射(RL，RL1，RL2)以便将待固化的第一部分的图像瞬时投射在参考表面(SR)上，该第二子光学组(42)被配置成选择性地将辐射(RL，RL1，RL2)朝向该参考表面(SR)的一点运送并且移动该点以便逐渐曝光该参考表面(SR)的待固化的第二部分。该立体光刻机具有改进的光学组。

主权项

1.一种用于制造三维物体(O)的立体光刻机(1)，其属于包括以下各项的类型：‑用于流体物质(R)的容器(2)，所述流体物质(R)适配成用于通过曝光于至少一个预定辐射(RL，RL1，RL2)而在各层(S)中被固化；‑所述至少一个预定辐射(RL，RL1，RL2)的至少一个源(3，31，32)；‑光学组(4)，其被配置成将所述至少一个辐射(RL，RL1，RL2)朝向布置在所述容器(2)内的所述流体物质(R)的参考表面(SR)引导；‑控制逻辑单元(5)，其被配置成控制所述光学组(4)和/或所述至少一个辐射源(3，31，32)，以便将所述参考表面(SR)的至少一部分曝光于所述辐射(RL，RL1，RL2)；其特征在于：‑所述光学组(4)包括：‑第一子光学组(41)，其被配置成待曝光于所述至少一个辐射(RL，RL1，RL2)，以便将与所述三维物体(O)的体积的一部分相对应的待固化的第一部分的图像瞬时投射到所述参考表面(SR)上；‑第二子光学组(42)，其被配置成朝向所述参考表面(SR)的一点选择性地运送所述至少一个辐射(RL，RL1，RL2)并移动所述点以便逐渐曝光所述参考表面(SR)的与所述三维物体(O)的体积的一部分相对应的待固化的第二部分；‑所述控制逻辑单元(5)被配置成彼此独立地控制所述第一子光学组(41)和所述第二子光学组(42)。