[发明专利]半导体基板清洗装置

摘要

本发明揭示了一种半导体基板清洗装置。装置包括腔室(101)、卡盘(102)、液体收集器(104)、围墙(105)、至少一个驱动装置(106)、至少一个内部分配器(111)及至少一个外部分配器(118)。腔室(101)具有顶壁(1011)、侧壁(1012)和底壁(1013)。卡盘(102)设置在腔室(101)内用来保持半导体基板(103)。液体收集器(104)围绕着卡盘(102)。围墙(105)围绕着液体收集器(104)。所述的至少一个驱动装置(106)驱动围墙(105)上下移动，其中，当所述的至少一个驱动装置(106)驱动围墙(105)向上移动时，由液体收集器(104)、围墙(105)、腔室(101)的顶壁(1011)及腔室(101)的底壁(1013)形成密封室(110)。所述的至少一个内部分配器(111)设置在该密封室(110)内。所述的至少一个外部分配器(118)设置在该密封室(110)外。在使围墙(105)向下移动后，所述的至少一个外部分配器(118)能进、出该密封室(110)。

主权项

1.一种半导体基板清洗装置，其特征在于，包括：腔室，所述腔室具有顶壁、侧壁及底壁；卡盘，所述卡盘位于腔室内用于保持半导体基板；液体收集器，所述液体收集器围绕着卡盘；围墙，所述围墙围绕着液体收集器；至少一个驱动装置，所述的至少一个驱动装置驱动围墙上下移动，其中，当所述的至少一个驱动装置驱动围墙向上移动时，由液体收集器、围墙、腔室的顶壁及腔室的底壁形成密封室；至少一个内部分配器，所述的至少一个内部分配器位于密封室的内部；及至少一个外部分配器，所述的至少一个外部分配器位于密封室的外部，在使围墙向下移动后，所述的至少一个外部分配器进、出密封室。