[发明专利]投影光学系统、图像投影装置以及图像投影系统在审
| 申请号： | 201780088969.0 | 申请日： | 2017-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN110462481A | 公开（公告）日： | 2019-11-15 |
| 发明（设计）人： | 内田恒夫;山田克 | 申请（专利权）人： | 松下知识产权经营株式会社 |
| 主分类号： | G02B17/08 | 分类号： | G02B17/08;G02B13/18;G03B21/14 |
| 代理公司： | 11021 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 韩丁<国际申请>=PCT/JP2017/ |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 投影光学系统(100)是用于在被投影面(SC)放大投影图像显示元件(130)的图像的投影光学系统，具备透射光学系统(110)和反射光学系统(120)。透射光学系统(110)包含多个透镜和孔径光阑。反射光学系统(120)具有：对来自透射光学系统(110)的出射光进行反射的第1反射面、和对来自第1反射面的出射光进行反射的第2反射面。被投影面(SC)与图像显示元件(130)的显示面不平行。基准光线(R)的主光线是被投影于被投影面(SC)的最靠投影光学系统(100)侧的光线之中通过孔径光阑的中心的光线。基准光线(R)的主光线入射到第1反射面的位置处的第1反射面的局部光焦度比基准光线(R)的主光线入射到第2反射面的位置处的第2反射面的局部光焦度强。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 投影光学系统 透射光学系统 被投影面 基准光线 主光线 反射光学系统 图像显示元件 局部光焦度 孔径光阑 出射光 反射面 位置处 入射 透镜 放大投影 不平行 显示面 投影 图像 | ||
【主权项】：
1.一种投影光学系统，用于向被投影面放大投影图像显示元件的图像，所述投影光学系统具备：/n透射光学系统，包含多个透镜和孔径光阑；和/n反射光学系统，具有对来自所述透射光学系统的出射光进行反射的第1反射面、和对来自所述第1反射面的出射光进行反射的第2反射面，/n所述被投影面与所述图像显示元件的显示面不平行，/n基准光线的主光线是被投影于所述被投影面的最靠所述投影光学系统侧的光线之中通过所述孔径光阑的中心的光线，/n所述基准光线的主光线入射到所述第1反射面的位置处的所述第1反射面的局部光焦度比所述基准光线的主光线入射到所述第2反射面的位置处的所述第2反射面的局部光焦度强，/n所述投影光学系统满足以下的条件式(1)以及(2)：/n1.0＜θscn/θm2＜50.0···(1)/n3.0＜D1/D2＜15.0···(2)/n这里，/nθscn是所述基准光线的主光线入射到所述被投影面的位置处的所述被投影面的法线与所述基准光线的主光线所成的角度，/nθm2是所述基准光线的主光线入射到所述第2反射面的位置处的所述第2反射面的法线与所述基准光线的主光线所成的角度，/nD1是从所述图像显示元件的显示面到所述第1反射面的所述基准光线的主光线的光路长度，/nD2是从所述第1反射面到所述第2反射面的所述基准光线的主光线的光路长度。/n
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