[发明专利]用于预陶瓷聚合物立体光刻的孔系统有效
| 申请号： | 201780091229.2 | 申请日： | 2017-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN110662644B | 公开（公告）日： | 2022-07-15 |
| 发明（设计）人： | J·M·亨德利;Z·C·埃克尔;E·C·舒勒;S·M·比斯波尔 | 申请（专利权）人： | HRL实验室有限责任公司 |
| 主分类号： | B29C64/286 | 分类号： | B29C64/286;B29C64/129;G03F7/20;B33Y40/00;B33Y30/00 |
| 代理公司： | 北京瑞恒信达知识产权代理事务所(普通合伙) 11382 | 代理人： | 曹津燕;尹卓 |
| 地址： | 美国加利福*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请提供一种用于自底向上的立体光刻装置的孔系统，所述孔系统包括具有下部开口的储液器、孔和边界密封件，所述孔包括定位在储液器内并覆盖下部开口的柔性隔膜，所述边界密封件包括围绕柔性隔膜的周边定位，所述边界密封件包括一个或多个边界密封部件，并且抵靠储液器固定柔性隔膜的周边。柔性隔膜由对立体光刻装置中使用的液体树脂以及由该装置制造的固化的光聚合物树脂部件具有低亲和性的材料形成。另外，当将固化的树脂部件从孔中拉出时，柔性隔膜能够变形，因此使得在固化的树脂和孔之间的界面处发生较低能量的混合模式粘合破坏，并且降低了对固化的光聚合物部件的内聚破坏的机会。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 陶瓷 聚合物 立体 光刻 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于自底向上的立体光刻装置的孔系统，所述孔系统包括：/n具有下部开口的储液器；/n孔，所述孔包括：/n柔性隔膜，所述柔性隔膜定位在所述储液器内并覆盖所述下部开口；和/n边界密封件，所述边界密封件围绕所述柔性隔膜的周边定位，所述边界密封件包括一个或多个边界密封部件且抵靠所述储液器固定所述柔性隔膜的周边。/n
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