[发明专利]基质膜形成装置在审
申请号: | 201780096482.7 | 申请日: | 2017-11-30 |
公开(公告)号: | CN111295584A | 公开(公告)日: | 2020-06-16 |
发明(设计)人: | 寺岛健太 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | G01N27/62 | 分类号: | G01N27/62;G01N27/64;G01N1/28 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 在用于在质谱成像所使用的样品板形成基质物质的膜的基质膜形成装置中设置有:喷雾喷嘴(20),其具备溶液管(21)和气体管(22);气体输送部件(40、41、42、46),其向气体管(22)的基端侧输送高压气体;以及加压溶液输送部件(40、41、42、48、30、31),其对含有基质物质的溶液进行加压并将溶液向溶液管(21)的基端侧输送。由此,能够防止基质溶液滞留在溶液管(21)的顶端附近,从而防止由于在溶液管(21)内形成结晶块而导致喷雾喷嘴(20)的堵塞。 | ||
搜索关键词: | 基质 形成 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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