[发明专利]基质膜形成装置在审
| 申请号： | 201780096501.6 | 申请日： | 2017-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN111316092A | 公开（公告）日： | 2020-06-19 |
| 发明（设计）人： | 寺岛健太;绪方是嗣 | 申请（专利权）人： | 株式会社岛津制作所 |
| 主分类号： | G01N27/62 | 分类号： | G01N27/62;G01N27/64;G01N1/28 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在对贴附有试样的样品板(P)喷雾基质溶液来形成基质膜的装置中，设有容纳有供样品板安装的样品台(11)的腔室(10)、向样品台喷雾基质溶液的喷雾喷嘴(20)、形成于腔室的气体导入口(14)、向气体导入口供给置换气体的置换气体供给部件(40、41、42、43、47)、以及使腔室内的置换气体流扩散的置换气体扩散部件(15、17)。根据这样的结构，能够在防止因置换气体的气流而形成湿度梯度的同时进行腔室内的气体置换。其结果是，能够将腔室内的湿度维持为恒定且均匀，从而使在样品板上形成的晶粒的大小和基质溶液对试样成分的提取效率稳定。 | ||
| 搜索关键词： | 基质 形成 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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