[发明专利]用于处理基板的基板支撑件、真空处理设备和基板处理系统有效
| 申请号： | 201780097049.5 | 申请日： | 2017-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN111373503B | 公开（公告）日： | 2023-04-28 |
| 发明（设计）人： | 西蒙·刘;莱内尔·欣特舒斯特;安科·赫尔密西 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C14/50;C23C16/458;H01L21/687 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 描述了用于处理基板(101)的基板支撑件(100)。所述基板支撑件包括：支撑主体(110)；以及干粘合物(120)，所述干粘合物附接到所述支撑主体，所述干粘合物为所述基板提供保持布置，所述支撑主体被配置为使所述基板移动一角度而进入处理区域(170)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 处理 支撑 真空 设备 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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