[发明专利]成膜方法及成膜装置有效
| 申请号： | 201780097973.3 | 申请日： | 2017-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN111542645B | 公开（公告）日： | 2022-07-26 |
| 发明（设计）人： | 药师神弘士;三浦让;芝本雅弘 | 申请（专利权）人： | 佳能安内华股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/24 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 韩卉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种成膜方法，在靶材的附近配置撞击器的放电部而诱发电弧放电，利用由此产生的等离子体在基板上形成膜，其中，包括：变更工序，将通过所述撞击器诱发电弧放电的位置在所述靶材的设定的区域中进行变更；成膜工序，利用通过在所述位置引起电弧放电而产生的等离子体，在基板上形成膜；以及缩小工序，根据所述靶材的使用而缩小所述区域。 | ||
| 搜索关键词： | 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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