[发明专利]一种抗硫钯合金复合膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201810000406.8 申请日: 2018-01-02
公开(公告)号: CN108097065B 公开(公告)日: 2020-11-17
发明(设计)人: 张栋强;杨平;陈彦安;赵静;杨珊珊 申请(专利权)人: 兰州理工大学
主分类号: B01D71/02 分类号: B01D71/02;B01D69/12;B01D69/02;B01D67/00
代理公司: 兰州振华专利代理有限责任公司 62102 代理人: 董斌
地址: 730050 甘肃*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 一种低成本抗硫钯合金复合膜的制备方法,所述的低成本抗硫钯合金复合膜,包括在多孔支撑体表面的钯合金膜或钯双合金复合膜,对多孔支撑体表面的钯复合膜采用一次性合金化制备Pd‑Ag/Pd/Pd‑Cu双合金复合膜。其制备方法为:采用连续化学镀法,首先化学镀Ag,将Ag膜沉积在多孔支撑体表面,其次化学镀Pd,将Pd膜沉积在多孔支撑体表面的Ag膜之上,最后化学镀Cu,将Cu沉积在多孔支撑体表面的Ag/Pd膜之上,待全部镀膜过程完成后,将含有Ag/Pd/Cu膜的多孔支撑体放入膜组件中进行合金化操作。
搜索关键词: 一种 抗硫钯 合金 复合 制备 方法
【主权项】:
1.一种低成本抗硫钯合金复合膜的制备方法,所述的低成本抗硫钯合金复合膜,包括在多孔支撑体表面的钯合金膜或钯双合金复合膜,其特征在于,对多孔支撑体表面的钯复合膜采用一次性合金化制备Pd-Ag/Pd/Pd-Cu双合金复合膜,其制备方法的步骤为:(1)首先将支撑体表面清洗,活化敏化后先在323K~353K放入镀银液中进行化学镀Ag,所镀Ag膜厚度为1~2μm,化学沉积后的支撑体在373K~393K的去离子水中彻底清洗,烘干;(2)进行化学镀Pd时,将镀有Ag膜的支撑体放入镀钯液中在已制备的Ag膜上继续进行无电镀Pd,所镀Pd膜厚度为2~5μm,化学镀Pd完成后的支撑体采用与化学镀Ag完成后相同的方法清洗和烘干;(3)最后,在室温下将干燥后的镀Ag/Pd膜片再放入镀Cu浴中,在Pd膜表面进行无电镀金属Cu膜,所镀Cu膜厚度为1~5μm,化学镀Cu完成后的支撑体采用与化学镀 Ag/Pd完成后相同的方法清洗和烘干;(4)当所有化学镀步骤全部完成后,将含有Ag/Pd/Cu膜的支撑体放入膜组件中进行合金化操作,制备Pd-Ag/Pd/Pd-Cu合金复合膜,合金化后Pd-Ag合金膜厚度为1~2μm,Pd-Cu合金膜厚度为2~4μm,采用XRD方法对合金化实验进行考察。
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