[发明专利]掩膜板及其制备方法有效
| 申请号： | 201810002630.0 | 申请日： | 2018-01-02 |
| 公开（公告）号： | CN108193191B | 公开（公告）日： | 2021-10-26 |
| 发明（设计）人： | 齐忠胜;李杰威;殷川;熊先江;毛波 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/04 | 分类号： | C23C16/04;C23C18/36;C09D127/18;C09D161/16;C09D181/02;C09D7/61 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 赵天月 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了掩膜板及其制备方法。该掩膜板包括：掩膜板母板；保护层，保护层设置于掩膜板母板的至少一个表面上，保护层用于保护掩膜板母板和/或与掩膜板直接接触的衬底不受损伤。由此，通过设置保护层可以使得掩膜板具有较小的表面粗糙度，可以避免与掩膜板直接接触的衬底被刮伤；保护层还可以避免掩膜板母板静电的释放，以免造成对上述衬底的烧伤以及改善掩膜板边缘处薄膜厚度不均匀的现象；还可以提高掩膜板的抗腐蚀性，延长掩膜板的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜板，其特征在于，包括：掩膜板母板；保护层，所述保护层设置于掩膜板母板的至少一个表面上，所述保护层用于保护所述掩膜板母板和/或与所述掩膜板直接接触的衬底不受损伤。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
