[发明专利]衬底基板及其制造装置、制备方法和显示装置有效
| 申请号： | 201810002986.4 | 申请日： | 2018-01-02 |
| 公开（公告）号： | CN108196387B | 公开（公告）日： | 2021-03-30 |
| 发明（设计）人： | 万彬;黎敏;刘超;毕瑞琳 | 申请（专利权）人： | 重庆京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人： | 朱亲林 |
| 地址： | 400714 重庆市北*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种衬底基板及其制造装置、制备方法和显示装置，属于显示器相关技术领域。所述衬底基板为单层结构，且沿厚度方向包括导电部分和非导电部分。通过使得衬底基板设计为沿厚度方向包含导电部分和非导电部分的单层结构，进而利用其中的导电部分可以分别作为ADS型彩膜基板中屏蔽ITO层或者作为TN型彩膜基板中公共电极层，也即无论是何种显示方式均可以使得在具有本申请衬底基板结构的基础上不需要额外制备ITO层结构，这样能够免除现有基板中的ITO层结构，进而不仅能够简化工序、提高良品率，而且能够降低成本、增强产品竞争力。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 及其 制造 装置 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种衬底基板，其特征在于，所述衬底基板为单层结构，沿厚度方向包括导电部分和非导电部分。
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