[发明专利]一种微结构的制备方法、压印模版、显示基板在审

专利信息
申请号: 201810004175.8 申请日: 2018-01-03
公开(公告)号: CN108227376A 公开(公告)日: 2018-06-29
发明(设计)人: 周婷婷;张斌;彭宽军;张方振;邹祥祥 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 柴亮;张天舒
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种微结构的制备方法、压印模版、显示基板,属于微结构技术领域,其可解决现有的压印模板的制备过程操作繁琐、成本昂贵的问题。本发明的微结构的制备方法先采用激光处理将上层的第二膜层中的部分位置处的材料进行改性,然后除去其余位置的未改性的材料即可得到保留的改性的微结构。该方法制备步骤简单,成本低,适于制备压印模版,还可用于制备显示基板上的减反微结构。
搜索关键词: 微结构 制备 压印模版 显示基板 改性 激光处理 压印模板 制备过程 未改性 位置处 可用 膜层 上层 保留
【主权项】:
1.一种微结构的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:对位于第一膜层上方的第二膜层的第一位置进行激光处理,以改变第二膜层中第一位置处的材料的结构性质得到改性膜层;其中,第二膜层中未进行激光处理的为第二位置;去除改性膜层中第一位置或者第二位置处的材料,得到形成于第一膜层上的多个微结构。
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