[发明专利]一种降解模组及清洗设备有效
| 申请号： | 201810007404.1 | 申请日： | 2018-01-03 |
| 公开（公告）号： | CN108190996B | 公开（公告）日： | 2020-11-17 |
| 发明（设计）人： | 李海旭;曹占锋;姚琪;汪建国;孟凡娜 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | B01J35/00 | 分类号： | B01J35/00;B01J19/12;B01J21/06;C02F1/30;C02F1/32;B08B3/14;C02F101/30 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 张京波;曲鹏 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种降解模组及清洗设备。该降解模组包括基底以及设置在所述基底上的降解层，所述降解层用于在光的照射下降解有机物。该清洗设备包括该降解模组，还包括用于向降解模组照射光的发光膜组。降解模组设置在清洗设备的容器内，所述降解模组的设置方向与容器内的水流方向一致。在光的照射下，该解模组可以除去循环水中的有机污染物，保证了循环水的水质，提高了循环水的清洗效果，避免了循环水频繁更换，降低了清洗设备的使用成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 降解 模组 清洗 设备 | ||
【主权项】：
1.一种降解模组，其特征在于，包括基底以及设置在所述基底上的降解层，所述降解层用于在光的照射下降解有机物。
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