[发明专利]光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法

摘要

一种光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法，修正方法：对第一类型分割边和第二类型分割边进行第一OPC修正，得到第一类型初始修正边和第二类型修正边；根据初始边缘放置误差对第一类型初始修正边进行第二OPC修正，得到第一类型修正边；之后获取第一类型修正边的第一边缘放置误差和第二类型修正边的第二边缘放置误差；若第一边缘放置误差大于第一阈值或第二边缘放置误差大于第二阈值，将第一类型修正边和第二类型修正边构成的图形作为目标图形并重复将子目标图形的各边分割为若干分割边至获取第一边缘放置误差和第二边缘放置误差的过程直至第一边缘放置误差和第二边缘放置误差均小于第二阈值，第一阈值小于第二阈值。提高了修正效率。

主权项

1.一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括：提供目标图形，所述目标图形包括多个子目标图形；将子目标图形的各边分割为若干分割边；获取若干分割边中的第一类型分割边，第一类型分割边之外的分割边为第二类型分割边；对第一类型分割边和第二类型分割边进行第一OPC修正，得到第一类型初始修正边和第二类型修正边；获取第一类型初始修正边的初始边缘放置误差；根据初始边缘放置误差对第一类型初始修正边进行第二OPC修正，得到第一类型修正边；进行第二OPC修正后，获取第一类型修正边的第一边缘放置误差和第二类型修正边的第二边缘放置误差；若第一边缘放置误差大于第一阈值，或第二边缘放置误差大于第二阈值，则将第一类型修正边和第二类型修正边构成的图形作为目标图形，并重复将子目标图形的各边分割为若干分割边至获取第一边缘放置误差和第二边缘放置误差的过程，直至第一边缘放置误差小于第一阈值，且第二边缘放置误差小于第二阈值，第一阈值小于第二阈值。