[发明专利]软脆晶片研磨抛光用磨料的制备方法及其应用

摘要

本发明公开了一种软脆晶片研磨抛光用磨料的制备方法及其应用，采用一种利用沉降原理对磨料进行精确粒度分级的方法，通过对磨料在悬浮液中的分散性改进、沉降时间精确控制以及分离次数的控制，对微米级磨料进行精确分级，制备粒度分布均匀的高品质磨料，以达到碲锌镉等特殊晶片精密表面加工的要求。本发明所述分级方法还具有分级下限低、分级精度高、设备简单易操作、低能耗、低成本的优点。

主权项

1.一种软脆晶片研磨抛光用磨料的制备方法，其特征在于，利用沉降法对磨料进行粒度分级，以制备粒度分布均匀的高品质磨料，包括如下步骤：a.调控磨料在水中分散性：采用去离子水为溶剂，将磨料和去离子水混合配制悬浮液并搅拌均匀，采用悬浮液吸光度观察法确定样品在悬浮液中的分散性，测量悬浮液吸光度，若在20min内悬浮液吸光度值不发生明显下降，则完成悬浮液制备；若悬浮液吸光度发生明显下降，则调节悬浮液PH，通过加入分散剂搅拌均匀后，完成悬浮液制备；b.沉淀与悬浮液分离时间确定：绘制悬浮液沉降质量随沉降时间变化的曲线，根据曲线特征确定沉淀与悬浮液的沉降分离时间；c.多次分离分级：在同一分离时间处，在当前分离悬浮液与沉淀后，在沉淀中重新加入去离子水，搅拌均匀后制得后续悬浮液，以相同分离时间多次分离悬浮液，得到分级后各磨料粒径从大到小的不同粒度级别的磨料。