[发明专利]环形循环连续式真空镀膜装置

摘要

本发明涉及一种环形循环连续式真空镀膜装置，包括主腔体、主真空系统及镀膜工艺组件，主腔体设置有主腔室、可开合的进料口，还包括转盘、转盘升降机构、转盘转动机构、进料腔室、若干个工艺腔室及进料子腔室真空系统，转盘转动机构驱动转盘水平转动，将待镀工件在进料腔室及各个工艺腔室之间传递，转盘升降机构驱动转盘升降，将进料腔室及工艺腔室在与主腔室联通的状态及独立真空腔室的状态之间切换，主真空系统将主腔室及各个工艺腔室进行真空处理，进料子腔室真空系统将进料腔室单独进行真空处理，不同的镀膜工艺组件安装于各工艺子腔体，实现不同的镀膜功能。本发明可在一个真空腔内实现环形循环连续式、低成本的镀膜生产。

主权项

1.一种环形循环连续式真空镀膜装置，包括主腔体、主真空系统及镀膜工艺组件，所述的主腔体内设置有主腔室，所述的主真空系统将主腔室进行真空处理，所述的主腔体设置有可开合的进料口，其特征在于：还包括转盘、转盘转动机构、转盘升降机构、进料子腔体、至少2个工艺子腔体及进料子腔室真空系统，所述的转盘转动机构驱动转盘水平转动设置于主腔室内，所述的进料子腔体及工艺子腔体安装于主腔体顶部上盖板，所述的进料子腔体及两个以上工艺子腔体位于转盘上方并沿转盘环形周向等距排布，所述的进料子腔体及工艺子腔体底部设置有朝向转盘的密封口，所述的转盘在转盘升降机构驱动其上升时，将进料子腔体的密封口密封并构成进料腔室，将工艺子腔体的密封口密封并构成工艺腔室，所述的进料子腔室真空系统将进料腔室单独进行真空处理，所述的转盘上方用于放置待镀工件，并在转盘转动机构驱动其转动时将待镀工件在进料腔室及各工艺腔室之间传递，所述的镀膜工艺组件安装于工艺子腔体对应的主腔体顶部上盖板且各镀膜工艺组件的功能不同。