[发明专利]氧传感器用电解质层和致密扩散层双层结构的制备方法有效

专利信息
申请号: 201810026776.9 申请日: 2018-01-11
公开(公告)号: CN108218439B 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 刘涛;王相南;莫扬成;易茂义;李静云;于景坤 申请(专利权)人: 东北大学
主分类号: C04B35/622 分类号: C04B35/622;C04B35/48;C04B35/50;G01N27/409
代理公司: 北京易捷胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11613 代理人: 齐胜杰
地址: 110169 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明涉及电化学氧传感器技术领域,尤其涉及氧传感器用电解质层和致密扩散层双层结构的制备方法。本发明所提供的制备方法,是在电解质层胚体上采用冷喷涂法或真空冷喷涂法形成致密扩散层,或者是在致密扩散层胚体上采用冷喷涂法或真空冷喷涂法形成电解质层。该制备方法制备出的电解质层和致密扩散层双层结构中电解质层和致密扩散层的结合强度高,致密度高,气孔少。
搜索关键词: 传感 器用 电解质 致密 扩散 双层 结构 制备 方法
【主权项】:
1.一种氧传感器用电解质层和致密扩散层双层结构的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤一、制备电解质层胚体;步骤二、采用冷喷涂工艺,利用压缩载气作为加速介质,带动致密扩散层粉末与工作气混合后在固态下以800‑1200m/s以上的速度碰撞所述电解质层胚体,在所述电解质层胚体上形成致密扩散层胚体,二者构成双层结构;步骤三、对所述双层结构进行烧结;步骤四、将烧结后的双层结构冷却至室温,其中冷却后的致密扩散层胚体形成致密扩散层,冷却后的电解质层胚体形成电解质层,所述致密扩散层和所述电解质层彼此叠置且相连,形成由电解质层和致密扩散层组成的双层结构。
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