[发明专利]显示装置制造用相移掩模坯料、显示装置制造用相移掩模的制造方法及显示装置的制造方法

摘要

本发明提供具备透射率波长依赖性优异的新型相移膜的用于制造显示装置的相移掩模坯料。该相移掩模坯料具备：透明基板、和形成在该透明基板上的相移膜，所述相移膜至少具有相移层和金属层，所述相移层由包含金属、硅和选自氮及氧中的至少一种的材料形成，所述金属层由下述材料形成：由金属和硅构成的材料、或者由金属、硅和选自碳、氟、氮、氧中的至少一种构成的材料，所述金属层所含的金属的含有率高于所述相移层所含的金属的含有率，或者，所述金属层所含的金属和硅的总含有率高于所述相移层所含的金属和硅的总含有率，所述相移膜在波长365nm以上且436nm以下的范围的透射率波长依赖性为5.5％以内。

主权项

1.一种相移掩模坯料，其是用于制造显示装置的相移掩模坯料，该相移掩模坯料具备：透明基板、和形成在该透明基板上的相移膜，其中，所述相移膜由2层以上的叠层膜形成，所述相移膜至少具有相移层和金属层，所述相移层主要具有调整对于曝光光的透射率和相位差的功能，所述金属层具有调整对波长365nm以上且436nm以下范围的透射率波长依赖性的功能，所述相移膜中，所述相移膜对于曝光光的透射率和相位差具有给定的光学特性，所述相移层由包含金属、硅和选自氮及氧中的至少一种的材料形成，所述金属层由下述材料形成：由金属和硅构成的材料、或者由金属、硅和选自碳、氟、氮、氧中的至少一种构成的材料，所述金属层所含的金属的含有率高于所述相移层所含的金属的含有率，或者，所述金属层所含的金属和硅的总含有率高于所述相移层所含的金属和硅的总含有率，所述相移膜在波长365nm以上且436nm以下范围的透射率波长依赖性为5.5％以内。