[发明专利]化学机械研磨抛光垫修整器及其制造方法在审
| 申请号： | 201810039547.0 | 申请日： | 2018-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN108857866A | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | 周瑞麟;周至中;郑忠義;王信君;洪煜超 | 申请（专利权）人： | 中国砂轮企业股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/20 | 分类号： | B24B37/20;B24B37/34;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 王玉双;李岩 |
| 地址： | 中国台湾台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种化学机械研磨抛光垫修整器及其制造方法，化学机械研磨抛光垫修整器包含一底部基板：一中间层，设置在该底部基板上，该中间层包括一中空部以及一围绕该中空部的环状部，该环状部具有多个凸块；以及一钻石膜，设置在该中间层上，并对应该中间层的该凸块而形成多个研磨凸起；其中，该研磨凸起的一顶面具有一图案化结构，且该顶面具有一介于2至20之间的中心线平均粗糙度(Ra)。 | ||
| 搜索关键词： | 中间层 化学机械研磨 抛光垫修整器 底部基板 研磨 环状部 顶面 凸块 凸起 中心线平均粗糙度 图案化结构 中空部 钻石膜 空部 制造 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械研磨抛光垫修整器，其特征在于，包含：一底部基板：一中间层，设置在该底部基板上，该中间层包括一中空部以及一围绕该中空部的环状部，该环状部具有多个凸块；以及一钻石膜，设置在该中间层上，并对应该中间层的该凸块而形成多个研磨凸起；其中，该研磨凸起的一顶面具有一图案化结构而具有一介于2至20之间的中心线平均粗糙度。
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