[发明专利]一种基于方酸衍生物的氨气传感器的制备方法有效

专利信息
申请号: 201810045907.8 申请日: 2016-01-14
公开(公告)号: CN108387618B 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 路建美;贺竞辉 申请(专利权)人: 苏州大学
主分类号: G01N27/12 分类号: G01N27/12
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 孙周强;陶海锋
地址: 215104 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种基于方酸衍生物的氨气传感器的制备方法。具体而言,本发明的氨气传感器包括叉指电极和镀膜材料,该镀膜材料为如式I所示的方酸衍生物MSA,其通过真空镀膜技术镀于叉指电极上,并且其厚度为100~200 nm。本发明的氨气传感器制备便捷,操作简单,选择性高,对于氨气的传感强度远高于其他分子;另外,本发明的氨气传感器灵明度高,对极小变化的氨气均有电流响应,并且最低检测限极低,可测试ppb级别的氨气。
搜索关键词: 一种 基于 衍生物 氨气 传感器 制备 方法
【主权项】:
1.一种基于方酸衍生物的氨气传感器的制备方法,其包括如下步骤:1)清洁基板,并将叉指电极固定在所述基板上;2)将步骤1)中固定有叉指电极的基板置于真空镀膜装置中,并向所述真空镀膜装置中装入作为镀膜材料的根据权利要求1所述的如式I所示的方酸衍生物;3)按照如下条件设置真空镀膜参数:蒸镀速度为5~6 Å/s,蒸镀压力为1E‑6~1E‑5 mbar,蒸镀温度为120~140℃;4)参数设置完成后,开启减压装置来降低所述真空镀膜装置的腔内气压,当腔内气压小于5.0 mbar时,开启分子泵,当气压达到蒸镀压力时,开始蒸镀薄膜,直至镀膜达到所需的厚度,即得基于方酸衍生物的氨气传感器;所述方酸衍生物的化学结构式如式I所示;
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