[发明专利]一种长波长LED外延垒晶片、芯片及制备方法在审

专利信息
申请号: 201810052678.2 申请日: 2018-01-19
公开(公告)号: CN110010731A 公开(公告)日: 2019-07-12
发明(设计)人: 颜建锋;敖辉;彭泽洋;庄文荣;孙明 申请(专利权)人: 东莞市中晶半导体科技有限公司
主分类号: H01L33/04 分类号: H01L33/04;H01L33/32;H01L33/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 523500 广东省东莞市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种长波长LED外延垒晶片的制备方法,制备步骤包括:把外延垒晶衬底放入外延生长反应室内;在外延垒晶衬底上生长CaN外延垒晶层,CaN外延垒晶层厚度为h,控制厚度6µm≥h≥0.35µm,在外延垒晶衬底表面生长GaN缓冲层,在GaN缓冲层上生长n型CaN,在n型CaN上生长量子阱,量子阱上生长p型CaN。本发明制备的氮化镓基长波长 LED外延垒晶片制备成的LED电性性能与蓝绿CaN基 LED电性性能一致。
搜索关键词: 制备 生长 长波长 晶片 电性性能 量子阱 衬底 衬底表面 氮化镓基 外延生长 层厚度 放入 芯片 室内
【主权项】:
1.一种长波长 LED外延垒晶片制备方法,其特征在于,长波长 LED外延垒晶片为长波长GaN LED外延垒晶片,制备步骤包括:A把外延垒晶衬底放入外延生长反应室内;B在外延垒晶衬底上生长CaN外延垒晶层,CaN外延垒晶层厚度为h,控制厚度6µm≥h≥0.35µm:a在外延垒晶衬底表面生长GaN缓冲层;b在GaN缓冲层上生长n型CaN;c在n型CaN上生长AlxInyCa(1‑x‑y)N量子阱:含C的有机生长源通入反应室内在Cl2或HCl的催化下参与量子阱生长,生长温度控制在700℃‑990℃之间,其中阱与磊生长温差w控制在100℃>w>0℃,控制量子阱生长速率在0.2A/sec——1.2A/sec之间,量子阱≥7对,量子阱中C的浓度范围为1016——1020cm‑3,量子阱中In的含量>3%;d在AlxInyCa(1‑x‑y)N量子阱上生长p型CaN。
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