[发明专利]面蒸镀源及其制作方法、蒸镀方法、蒸镀装置有效
| 申请号： | 201810054822.6 | 申请日： | 2018-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN110055498B | 公开（公告）日： | 2022-08-12 |
| 发明（设计）人： | 王路 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/28 | 分类号： | C23C14/28;C23C14/04;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种面蒸镀源及其制作方法、蒸镀方法、蒸镀装置，涉及显示技术领域，所述面蒸镀源用于蒸镀待蒸镀材料,使其能够经过蒸镀掩膜版的开口在器件基板上形成薄膜，包括衬底，在所述衬底上设置有隔离墙结构，所述隔离墙结构在所述衬底上形成多个相互分隔的第一凹槽；所述第一凹槽用于承载待蒸镀材料；蒸镀时，所述蒸镀掩膜版的开口在所述衬底上的投影至少覆盖一个所述第一凹槽在衬底上的投影。所述面蒸镀源能够减小蒸镀掩膜版的开口区域外的阴影面积，有效提升蒸镀的精度，降低不同像素间的混色问题，进而减小像素尺寸，支撑更高分辨率的OLED显示产品。 | ||
| 搜索关键词： | 面蒸镀源 及其 制作方法 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种面蒸镀源，用于蒸镀待蒸镀材料,使其能够经过蒸镀掩膜版的开口在器件基板上形成薄膜，其特征在于，包括：衬底；隔离墙结构，所述隔离墙结构设置在所述衬底上；其中，所述隔离墙结构在所述衬底上形成多个相互分隔的第一凹槽；所述第一凹槽用于承载待蒸镀材料；所述第一凹槽被配置为，蒸镀时，所述蒸镀掩膜版的开口在所述衬底上的投影至少覆盖一个所述第一凹槽在衬底上的投影。
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