[发明专利]一种掩膜装置、显示面板及其制作方法、显示装置有效
申请号: | 201810060860.2 | 申请日: | 2018-01-22 |
公开(公告)号: | CN108277473B | 公开(公告)日: | 2020-05-01 |
发明(设计)人: | 王伟;詹志锋;杨恕权 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/04 | 分类号: | C23C16/04;H01L51/52 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 周娟 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种掩膜装置、显示面板及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,以在显示面板的封装膜层开孔时,降低封装膜层产生裂纹的风险。该掩膜装置包括至少一种掩膜版;每种掩膜版包括边框遮挡部,边框遮挡部具有材料透过区域,材料透过区域设有开孔遮挡部,边框遮挡部和开孔遮挡部通过位于材料透过区域的定位遮挡部连接,掩膜装置应用于基板成膜时,成膜工艺的阴影效应下,定位遮挡部在基板的正投影覆盖区域形成膜层。所述显示面板使用上述掩膜装置形成封装膜层。本发明提供的掩膜装置、显示面板及其制作方法、显示装置用于封装膜层形成中。 | ||
搜索关键词: | 一种 装置 显示 面板 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜装置,其特征在于,用于基板成膜中,所述掩膜装置包括至少一种掩膜版;每种所述掩膜版包括与基板边框区域相对应的边框遮挡部,所述边框遮挡部具有与基板显示区域对应的材料透过区域,所述材料透过区域设有与基板显示区域的开孔位置对应的开孔遮挡部,所述边框遮挡部和所述开孔遮挡部通过位于材料透过区域的定位遮挡部连接,所述定位遮挡部至少为一个;所述掩膜装置应用于基板成膜时,成膜工艺的阴影效应下,所述定位遮挡部在基板的正投影覆盖区域形成膜层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810060860.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的