[发明专利]一种掩膜装置、显示面板及其制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201810060860.2 申请日: 2018-01-22
公开(公告)号: CN108277473B 公开(公告)日: 2020-05-01
发明(设计)人: 王伟;詹志锋;杨恕权 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: C23C16/04 分类号: C23C16/04;H01L51/52
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 周娟
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开一种掩膜装置、显示面板及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,以在显示面板的封装膜层开孔时,降低封装膜层产生裂纹的风险。该掩膜装置包括至少一种掩膜版;每种掩膜版包括边框遮挡部,边框遮挡部具有材料透过区域,材料透过区域设有开孔遮挡部,边框遮挡部和开孔遮挡部通过位于材料透过区域的定位遮挡部连接,掩膜装置应用于基板成膜时,成膜工艺的阴影效应下,定位遮挡部在基板的正投影覆盖区域形成膜层。所述显示面板使用上述掩膜装置形成封装膜层。本发明提供的掩膜装置、显示面板及其制作方法、显示装置用于封装膜层形成中。
搜索关键词: 一种 装置 显示 面板 及其 制作方法 显示装置
【主权项】:
1.一种掩膜装置,其特征在于,用于基板成膜中,所述掩膜装置包括至少一种掩膜版;每种所述掩膜版包括与基板边框区域相对应的边框遮挡部,所述边框遮挡部具有与基板显示区域对应的材料透过区域,所述材料透过区域设有与基板显示区域的开孔位置对应的开孔遮挡部,所述边框遮挡部和所述开孔遮挡部通过位于材料透过区域的定位遮挡部连接,所述定位遮挡部至少为一个;所述掩膜装置应用于基板成膜时,成膜工艺的阴影效应下,所述定位遮挡部在基板的正投影覆盖区域形成膜层。
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