[发明专利]一种付里叶变换阵列的双成像方法、系统及其应用有效
申请号: | 201810061952.2 | 申请日: | 2018-01-23 |
公开(公告)号: | CN108254938B | 公开(公告)日: | 2020-11-06 |
发明(设计)人: | 楼益民;吴锋民;胡娟梅 | 申请(专利权)人: | 浙江理工大学 |
主分类号: | G02B27/60 | 分类号: | G02B27/60;G02B30/27 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 黄欢娣;邱启旺 |
地址: | 310018 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及一种付里叶变换阵列的双成像方法、系统及应用。光源发出的光线照明聚焦元件阵列层和微图文阵列层,通过聚焦元件的汇聚成像作用在聚焦元件阵列的焦点附近形成一系列光源的像点。所述光源发出的光线两次穿过微图文阵列,形成两套付里叶变换谱,分别形成莫尔图像;上述成像方法和系统具有特殊的光响应,可用于信息与图像处理、防伪安全、包装装饰等领域。 | ||
搜索关键词: | 一种 付里叶 变换 阵列 成像 方法 系统 及其 应用 | ||
【主权项】:
1.一种付里叶变换阵列的双成像方法,其特征在于,该方法通过光源和聚焦元件阵列形成的付里叶变换阵列系统实现;利用所述付里叶变换阵列系统对微图文阵列进行付里叶变换莫尔成像;所述光源发出的光线两次穿过微图文阵列,所述光源发出的光线第一次穿过微图文阵列,在光源的像点处形成微图文阵列的第一套付里叶变换谱;所述光线第一次穿过微图文阵列后经过反射第二次穿过微图文阵列,在光源的像点处或则无穷远处形成微图文阵列的第二套付里叶变换谱。所述各个光源像点处的第一套付里叶变换谱传播形成第一套放大的莫尔图像;所述各个光源像点处的第二套付里叶变换谱传播形成第二套放大的莫尔图像。
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