[发明专利]一种可调太赫兹超材料吸收器有效
申请号: | 201810064229.X | 申请日: | 2018-01-23 |
公开(公告)号: | CN108333803B | 公开(公告)日: | 2020-10-20 |
发明(设计)人: | 李九生;胡慕姝 | 申请(专利权)人: | 中国计量大学 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 傅朝栋;张法高 |
地址: | 310018 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种可调太赫兹超材料吸收器。它包括基底层、下电介质层、液晶材料层、上电介质层和金属圆盘谐振器阵列层;基底层为二硫化钼膜层,二硫化钼膜层的上层为下电介质层,下电介质层上层为液晶材料层,液晶材料层上层为上电介质层,上电介质层的上层为金属圆盘谐振器阵列层;金属谐振器阵列层由3×3个金属圆盘和椭圆盘组成的互补单元结构排列组成,在每个互补单元结构结构,圆盘位于中心,并且被四个椭圆盘围绕;太赫兹信号从吸收器上方垂直输入;通过给上下两个电介质层施加电压来改变液晶的折射率,从而使吸收器的吸收峰发生偏移,实现可调功能。本发明有结构简单紧凑、吸收性能好,太赫兹波吸收原理新颖,尺寸小,易加工等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 可调 赫兹 材料 吸收 | ||
【主权项】:
1.一种可调太赫兹超材料吸收器,其特征在于它包括基底层(1)、下电介质层(2)、液晶材料层(3)、上电介质层(4)和金属圆盘谐振器阵列层(5);基底层(1)为二硫化钼膜层,二硫化钼膜层的上层为下电介质层(2),下电介质层(2)上层为液晶材料层(3),液晶材料层(3)上层为上电介质层(4),上电介质层(4)的上层为金属圆盘谐振器阵列层(5);金属圆盘谐振器阵列层(5)由3×3个互补单元结构排列组成,每个互补单元结构均由金属圆盘和椭圆盘组成的,在每个互补单元结构中,圆盘位于中心,并且被四个椭圆盘围绕,同一个互补单元结构中相邻两个椭圆盘的长轴垂直;相邻两个互补单元结构之间存在一个共用的椭圆盘。
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