[发明专利]一种化学气相沉积法制备二硫化钽的方法在审
申请号: | 201810064973.X | 申请日: | 2018-01-23 |
公开(公告)号: | CN108179399A | 公开(公告)日: | 2018-06-19 |
发明(设计)人: | 张艳锋;史建平 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京方安思达知识产权代理有限公司 11472 | 代理人: | 陈琳琳;张红生 |
地址: | 100871*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种化学气相沉积法制备二硫化钽的方法,包括:将购买的商业金箔进行清洗和高温预退火处理;将清洗和预退火后的金箔放入高温管式炉中,利用常压化学气相沉积的方法进行二硫化钽纳米片的生长,利用低压化学气相沉积的方法进行厘米尺寸均匀的薄层二硫化钽薄膜的生长。生长结束后,温度降至室温,同时关闭氩气和氢气,即可得到金箔上的不同厚度二硫化钽纳米片和薄层二硫化钽薄膜样品。化学气相沉积方法的使用能够实现大面积、高质量、厚度可调二硫化钽样品的批量可控制备;可以实现其微观形貌和电子结构的探索;通过调控生长时间可以制备不同厚度/覆盖度的二硫化钽样品。 | ||
搜索关键词: | 二硫化钽 化学气相沉积 金箔 生长 纳米片 预退火 薄层 清洗 常压化学气相沉积 低压化学气相沉积 高温管式炉 氩气 薄膜样品 电子结构 厚度可调 微观形貌 氢气 覆盖度 可控制 温度降 放入 薄膜 制备 调控 购买 探索 | ||
【主权项】:
1.一种化学气相沉积法制备二硫化钽的方法,所述方法包括以下步骤:1)将金箔衬底进行清洗和高温预退火处理;2)将处理后的金箔衬底置于三温区高温管式炉中,按照气路由上游至下游的顺序,依次放置硫粉、五氯化钽和金箔衬底;3)向高温管式炉的反应腔内通入氩气和氢气,对反应腔进行清洗;4)分别升高硫粉、五氯化钽和金箔衬底的温度至280~300℃、300~350℃和700~750℃,进行二硫化钽的生长;5)二硫化钽生长结束后,温度降至室温,同时关闭氩气和氢气,即可得到金箔衬底上的二硫化钽样品。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的